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Steigert Leistung von Halbleitern: Japanisches Unternehmen entwickelt neuartigen Ruthenium-Präkursor

"TRuST"-Präkursor von TANAKA verbessert die Filmbildungsgeschwindigkeit bei der Gasphasen- und Atomlagenabscheidung “TRuST” Präkursor für CVD and ALD ProzesseDie TANAKA Kikinzoku…