CVD

Kyocera veröffentlicht neue CVD-beschichtete Hartmetallsorten CA115P und CA125P für die…

Die neue Technologie bietet eine 1,5-fach höhere Verschleißfestigkeit durch branchenweit führende Gleichmäßigkeit bei der Ausrichtung der Aluminiumoxidkristalle Wendeschneidplatten mit neuen…

3 Jahren ago

Steigert Leistung von Halbleitern: Japanisches Unternehmen entwickelt neuartigen Ruthenium-Präkursor

"TRuST"-Präkursor von TANAKA verbessert die Filmbildungsgeschwindigkeit bei der Gasphasen- und Atomlagenabscheidung “TRuST” Präkursor für CVD and ALD ProzesseDie TANAKA Kikinzoku…

6 Jahren ago